Micro and Nanoelectronics

Prozesse und Technologien für die Mikro- und Nanoelektronik

Die Mission der Nanoprozessintegration am Fraunhofer ENAS ist verschiedene Einzelprozesse der Mikro- und Nanotechnologien unter Einbeziehung auch neuartiger Materialien bzw. komplexer Multilagenstapel bei Dimensionen bis in den sub-Nanometerbereich in eine dem Einsatzzweck entsprechende und zuverlässige Gesamttechnologie zu überführen.

Ausgewählte Beispiele und Anwendungsszenarien

 

Neue Charakterisierungsver-fahren für die Oberflächen-bearbeitung

 

In Situ Plasmadiagnostik für Ätzprozesse in der Mikro- und Nanoelektronik

 

Gasphasenabscheidung (CVD) von Diffusions-barrieren und Metallen

 

Atomlagenabscheidung (ALD)

 

 

 

 

 

 

 

Charakterisierung von Kupferlegierungen für selbstformierende Barrieren

 

Technologien für die Spintronik