Fraunhofer-Institut für Elektronische NanosystemeDie Simulation technologischer Prozesse der Halbleiterindustrie (PVD, CVD, ALP, ECD) ist ein leistungsfähiges Werkzeug, um neue Prozesse und Anlagen zu entwickeln sowie Etablierte weiter zu optimieren. Durch die Kombination eigener Softwarewerkzeuge mit etablierten fluiddynamischen Simulationsmethoden und Quantenchemie können am ENAS Prozesse vom Waferlevel über die Abscheidung in kleinen Strukturen bis hin zur Oberflächenchemie modelliert und simuliert werden.
- Simulation der Gasphasenabscheidung
- Simulation von Oberflächenreaktionen
- Atomistische Prozessimulation
- Anwendungsbeispiel: Sputterprozesse
- Anwendungsbeispiel: Atomlagenprozessierung