Chemnitzer Studentin ist »Talent in Photomask Industry 2022«
Cansu Hanim Canpolat-Schmidt studiert Micro- and Nano-Systems an der TU Chemnitz und wurde im Rahmen der »European Mask and Lithography Conference« in Leuven mit dem »Best Student Paper« geehrt.
Auf der diesjährigen 37. European Mask and Lithography Conference (EMLC) in Leuven (Belgien) verlieh das Organisationskomitee zum sechsten Mal den Titel »Talents in Photomask Industry«. Mit der Auszeichnung werden seit 2016 Studentinnen und Studenten für herausragende Forschungsarbeiten im Bereich der Photomasken-Herstellung gewürdigt. In diesem Jahr wurde diese Ehre Cansu Hanim Canpolat-Schmidt durch die Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology GmbH zuteil. Canpolat-Schmidt studiert an der Technischen Universität Chemnitz im internationalen Studiengang Micro and Nano Systems. Der Preis wurde ihr am 22. Juni 2022 überreicht und ist mit einem ZEISS-Zertifikat sowie einer Trophäe verbunden. Darüber hinaus kann Canpolat-Schmidt ihre Arbeit im Rahmen der SPIE Photomask Technology Conference in Monterey Kalifornien vorstellen. Der Award ist zugleich auch ein Preisgeld in Höhe von 2.500 Euro verbunden, welches für die Reise nach Montery eingesetzt wird.
Frau Canpolat-Schmidt präsentierte ihre Ergebnisse gemeinsam mit ihren Betreuern Dr. Georg Heldt, Dr. Christian Helke und Dr. Danny Reuter, wissenschaftliche Mitarbeiter am Zentrum für Mikrotechnologien (Leitung: Prof. Dr. Harald Kuhn) der TU Chemnitz sowie am Fraunhofer ENAS. Dr. Anja Voigt von der micro resist technologie GmbH gehört ebenfalls zum Betreuungsteam von Frau Canpolat-Schmidt und war an der Präsentation beteiligt.
Während ihres Studium an der TU Chemnitz forscht Frau Canpolat-Schmidt am Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosystem ENAS auf dem Gebiet der Technologieentwicklung für Mikro- und Nanosysteme. Sie arbeitet sowohl an der TU Chemnitz als auch am Fraunhofer ENAS daran, neue technologische Prozesse zu untersuchen und Impulse für die Zukunft dieser Technologien zu geben. Ihr Forschungsinteresse liegt insbesondere auf dem Gebiet der Nanostrukturerzeugung mittels Elektronenstrahl-Lithographie. Aktuell bearbeitet sie ihre Masterarbeit. Dabei untersucht sie den innovativen, sehr niedrig viskosen Resist ma-N 1402 von der micro resist technologie GmbH für die Elektronenstrahl-Lithografie in Kombination mit der i-Line Stepper-Lithographie hinsichtlich Strukturauflösung und Prozessfähigkeit.
Schnellerer und effizientere Elektronenstrahl-Lithographie ermöglichen
Mit ihrem Konferenzbeitrag unter dem Titel »Lithographic Performance of Resist ma-N 1402 in an E-beam/i-line Stepper Intra-level Mix and Match Approach« konnte Cansu Hanim Canpolat-Schmidt zeigen, wie die hohe Schreibzeiten von Nano- und Mikrostrukturen mittels Elektronenstrahl-Lithographie durch einen sogenannten »Mix & Match«-Ansatz drastisch reduziert werden können indem Strukturen größer 350 nm mittels i-Line Stepper und Strukturen kleiner 350 nm mittels Elektronenstrahl-Belichtung in eine Resistschicht nacheinander übertragen werden. Mit dem von ihr vorgestellten Verfahren ergeben sich nicht nur effizientere technologische Prozesse und damit eine schnellere Bearbeitung der herzustellenden Layouts, sondern auch neue technologische Anwendungen, die bisher aufgrund des zeitlichen Aufwandes nicht realisierbar waren.
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