Simulation von Prozessen und Anlagen
Die Simulation technologischer Prozesse der Halbleiterindustrie (PVD, CVD, ALP, ECD) ist ein leistungsfähiges Werkzeug, um neue Prozesse und Anlagen zu entwickeln sowie Etablierte weiter zu optimieren. Durch die Kombination eigener Softwarewerkzeuge mit etablierten fluiddynamischen Simulationsmethoden und Quantenchemie können am ENAS Prozesse vom Waferlevel über die Abscheidung in kleinen Strukturen bis hin zur Oberflächenchemie modelliert und simuliert werden.
Simulation der Gasphasenabscheidung
Simulation von Oberflächenreaktionen
Atomistische Prozessimulation
Anwendungsbeispiel: Sputterprozesse
Anwendungsbeispiel: Atomlagenprozessierung