Unsere Rasterelektronenmikroskope ermöglichen die präzise Analyse verschiedenster Materialien und Proben. Dazu gehören unter anderem:
Unsere Rasterelektronenmikroskope ermöglichen die präzise Analyse verschiedenster Materialien und Proben. Dazu gehören unter anderem:
Schichtdicken- und Defektcharakterisierung, insbesondere FIB: Analyse von Mikrodefekten durch Herstellung von lokalen Präzisionsschnitten mittels Focused Ion Beam (FIB). Die selektive Entfernung oder Abtragung von Material ermöglicht die Erstellung von Querschnitten von Proben für REM-Aufnahmen. FIB-Cross Sectioning zur Darstellung tiefliegender Strukturen, Aufzeigen von Delaminationen, Bestimmung von Schichtdicken.
Oberflächencharakterisierung: Hochauflösende REM-Aufnahmen von Oberflächenstrukturen und -topographie verschiedenartiger Proben wie beispielsweise von 4"- bis 8"-Wafer, Bruchstücke, Halbleiterbauelemente, eingebettete Proben (REM-Schliffe) u.v.m.
Elementcharakterisierung: Energiedispersive Röntgenspektroskopie-Analyse (EDX, EDS) von chemischer Materialzusammensetzung zur Bestimmung der Elementverteilung auf der Oberfläche einer Probe (EDX-Spektrum) sowie die Erstellung von Elementverteilungskarten (Mapping). Es ermöglicht die chemische Analyse von Materialien durch Messung der charakteristischen Röntgenstrahlung, die von den Elementen im Probenbereich des REMs erzeugt wird.
Kristallographische Materialcharakterisierung: Phasen-, Textur- und Korngrößenanalyse mittels Electron-Backscattered Diffraction (EBSD). Diese Methode liefert Informationen über die Kornorientierung, Gitterdeformationen und Phasenidentifikation.