Die Oberflächenstrukturierungsverfahren können am Fraunhofer ENAS zwischen Nano- und Mikrostrukturierungstechniken unterschieden werden. Bei der Nanostrukturierung werden Strukturen mit lateralen Abmessungen im Nanometerbereich, d.h. < 1µm, mit unterschiedlichsten Verfahren in verschiedene Schichten (z.B. Si, SiO2 oder Al) erzeugt. Bei der Mikrostrukturierung werden Strukturen im Bereich von wenigen Mikrometern bis zu mehreren hunderten Mikrometern erzeugt. Für beide Techniken stehen unterschiedliche Technologien und Standardequipment zur Verfügung.