MultiALD – Anlagen- und Prozessentwicklung für die Atomlagenabscheidung Aluminium-basierter Dünnfilme für Barriere, Aktorik und Elektronik

Das Projekt MultiALD nimmt auf Basis Aluminium-haltiger Dünnschichtsysteme Wasserdampfbarriere- und sowie kristalline Aktuator-Materialien in den Fokus. Die Arbeiten umfassen die quantenchemisch unterstützte Prozessentwicklung zur Schichtabscheidung, sowie die Charakterisierung. Die Funktionalität wird an Demonstratoren gezeigt. Grundlage für die Arbeiten bildet die scia Atol 200-Anlage mit ihrem HF-Elektrodensystem, welche durch Überarbeitung und Weiterentwicklung höhere Prozesstemperaturen und eine bessere Steuerbarkeit in Plasmaprozessen ermöglichen werden.

Unsere Projektpartner:

• scia Systems GmbH Chemnitz (Koordinator)
• FAP Forschungs- und Applikationslabor Plasmatechnik GmbH (Dresden)
• InfraTec GmbH Infrarotsensorik und Messtechnik (Dresden)
• Zentrum für Mikro- und Nanotechnologien (ZfM), Technische Universität Chemnitz (Chemnitz)

Projektlaufzeit: 22.07.2025 bis 31.12.2027