Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme
Der Themenkomplex „Inline Metrology and Process Data“ adressiert Messungen, Messverfahren und Messtechnik auf Waferlevel im Rahmen der technologischen Realisierung von Halbleiterbauelementen. Neben den Messungen und Messverfahren selbst, kommen vor allem der Aufbereitung und dem Handling der Messdaten eine entscheidende Bedeutung zu.
Die intelligente Verknüpfung von Messdaten und Fertigungsparameter (Prozessdaten) hebt Technologieentwicklung und Qualitätsmanagement auf ein neues Level. Dabei spielen künstliche Intelligenz und mehrskalige Simulationen zunehmend eine Rolle. Inline Metrology and Process Data ist somit Bindeglied und zentrales Thema zugleich und ist am Fraunhofer ENAS als eigenständiges Forschungsthemenfeld direkt im zentralen FAB-Management platziert.
Es unterstützt somit alle internen Technologie-Projekte und steht zugleich unseren externen Kunden und Partnern offen. Gern entwickeln wir mit ihnen gemeinsam Metrology- und Datenstrategien anhand Ihrer konkreten Bedürfnisse.