Messe Nürnberg  /  25.6.2019  -  27.6.2019

SENSOR+TEST

Die Messtechnik-Messe

www.sensor-test.de

Halle 5
Stand 248

Das Fraunhofer ENAS präsentiert auf der diesjährigen SENSOR+TEST am Fraunhofer-Gemeinschaftsstand einen Waferlevelprozess zur galvanischen Abscheidung von Aluminium, einen Aluminiumnitrid für piezoelektrische Sensor- und Aktuatorsysteme und einen am Institut entwickelten Nahfeldscanner zur Erkennung von elektrischen und magnetischen Feldern in elektronischen Bauteilen.

Galvanische Abscheidung von Alumnium:
Das Fraunhofer ENAS hat in dem vom BMBF-geförderten Verbundprojekt „AioLi“ (FKZ: 16ES0329K) einen Prozess zur Abscheidung von dicken Aluminiumschichten auf Leiterplatten-, Silizium- und Keramiksubstraten entwickelt. Mit diesem Abscheideverfahren können Schichtdicken bis derzeit 30 µm auf 150-Millimeter-Substraten erreicht werden. Die Beschichtung auf Waferlevel ist damit weltweit einzigartig. Die Schichten können als Leiterbahn, als Bondpads oder auch als Bondrahmen für Chip- und Waferlevel-Fügeverfahren genutzt werden.

Aluminiumnitrid für piezoelektrische Sensor- und Aktuatorsysteme:
Fraunhofer ENAS und das Zentrum für Mikrotechnologien der TU Chemnitz entwickelten die Sputtertechnologie und die Charakterisierung der pieozelektrischen AlN-Dünnschichten und integrierten das Material in Silizium-basierte Mikro- und Nanosysteme. Diese Mikrosysteme besitzen eine hohe Energiedichte, was eine starke Miniaturisierung der Systeme ermöglicht. Das Basismaterial Aluminiumnitrid lässt sich im Gegensatz zu herkömmlich verwendeten Blei-Zirkonat-Titanat (PZT) in CMOS-Prozesse integrieren, da die Abscheidung und Strukturierung mit konventionellen Anlagen für Aluminium-basierte BEOL-Technologien realisiert werden kann. Somit ist es möglich piezoelektrische MEMS- und CMOS-Bauteile in einer Produktionslinie herzustellen. Das Fraunhofer ENAS zeigt verschiedene Anwendungsbeispiele.

Nahfeldmessungen mit dem NFS3000 zur elektromagnetischen Charakterisierung von Bauteilen und Systemen:
Mittels Nahfeldmessungen lassen sich elektrische und magnetische Felder lokal aufgelöst wenige Millimeter bis Zentimeter über dem Testobjekt sichtbar machen und somit unter anderem für Analysezwecke und Fehlersuche nutzen. Ein System zur elektromagnetischen Nahfeldmessung ist der NFS3000. Entwickelt wurde dieser am Standort Paderborn des Fraunhofer ENAS. Eine der Besonderheiten dieses Messsystems ist, dass sich durch ein hochgenaues Positionierungssystem Messungen mit einer Verfahrgenauigkeit von einem Mikrometer realisieren lassen und gleichzeitig in einem maximalen Verfahrbereich von 80 cm x 50 cm x 50 cm (XYZ) gearbeitet werden kann. Mit einer phasenbezogenen Messung magnetischer und elektrischer Felder von bis zu 2,7 GHz und einer reinen Amplitudenmessung bis 6 GHz können Systeme aktuell bis in den W-LAN- und Bluetooth-Bereich charakterisiert werden. Geplant ist der Ausbau des Systems auf bis zu 80 GHz, um für zukünftige 5G- und Radaranwendungen gerüstet zu sein.