Wir laden Sie recht herzlich zu unserem
CHEMNITZER SEMINAR
»Elektronenstrahl-Lithografie: Materialien - Prozesse - Anwendungen«
am Mittwoch, dem 13. März 2019
von 9:30 Uhr bis 16:35 Uhr
am Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme ENAS ein.
Seit 2015 verfügt das Fraunhofer ENAS über eine Elektronenstrahl-Belichtungsanlage SB254 der Vistec Electron Beam GmbH (Jena). Bereits damals luden wir anlässlich der Einweihung des Nanolithografie-Labs zu einem Chemnitzer Seminar rund um das Thema Elektronenstrahl-Lithografie ein. Das möchten wir nun wiederholen, um eine regelmäßiges Format zu bieten, bei dem Fachkollegen und Interessenten sowie potentielle Nutzer und Anwender der Elektronenstrahllithografie miteinander ins Gespräch kommen und sich in lockerer Atmosphäre zu aktuellen Themen rund um die elektronenstrahlbasierte Nanostrukturierung auszutauschen. Dabei soll neben den wissenschaftlichen Fragestellungen auch praktische Aspekte und Hintergründe beleuchtet werden, die bei internationalen Konferenzen oft nicht zur Sprache kommen.
Wir freuen uns sehr, dass wir wieder exzellente Referenten für die Veranstaltung gewinnen konnten, die mit einem breiten Spektrum an Vortragsthemen – von Elektronenstrahllacken und neuen Materialentwicklungen über die Datenaufbereitung bis hin zu einem breiten Mix von Anwendungen – zu einem informativen und kurzweiligen Workshop beitragen werden.
Wir würden uns freuen Sie am 13. März in Chemnitz am Fraunhofer ENAS begrüßen zu dürfen.
Mit freundlichen Grüßen,
Danny Reuter