Chemnitzer Seminare

Wir laden Sie zu unserem

24. Chemnitzer Seminar

für  Nanotechnology, Nanomaterials und Nanoreliability

 

herzlich ein und begrüßen Sie am

Mittwoch 4. November 2015 in Chemnitz

Ort: Fraunhofer ENAS, Technologie-Campus 3, 09126 Chemnitz

 

Thema: Elektronenstrahl-Lithografie

 

Das Fraunhofer ENAS verfügt über spezifisches technologisches Know-how auf dem Gebiet der Smart Systems Integration sowie Mikro- und Nanoelektronik.

Im Rahmen eines langfristig angelegten Investitionsvorhabens, das von der Europäischer Union, dem Bund, dem Land Sachsen und der Fraunhofer-Gesellschaft gefördert wurde, gelang es, eine nachhaltige Verbesserung des technischen und technologischen Potentials unseres Institutes durch die Anschaffung und Inbetriebnahme von Ausrüstungen für die Herstellung von Nanometerstrukturen mit einer Auflösung von bis zu 20 nm zu
erreichen. Kernkomponente der Gesamtinvestition ist die 50 kV Elektronenstrahl-Belichtungsanlage SB254 der Vistec Electron Beam GmbH (Jena), die eine hohe Flexibilität in der Bearbeitung von Forschungsthemen mit Nanostrukturen künftiger Generationen gestattet.

Unser Ziel ist es, anlässlich der Einweihung des Nanolithografie-Labs am Fraunhofer ENAS mit Fachkollegen und Interessenten sowie potentiellen Nutzern und Anwendern der Elektronenstrahllithografie ins Gespräch zu kommen und die neuen Möglichkeiten an unserem Institut vorzustellen.

Wir freuen uns, dass wir für diese Veranstaltung eine Reihe von exzellenten Referenten gewinnen konnten, die mit einem breiten Spektrum an anwendungsorientierten Vortragsthemen zu einem informativen Workshop beitragen werden.

 

Programm:

 

  • 10:00 – 10:10 Uhr
    Begrüßung 
    Prof. Dr. Thomas Geßner, Dr. Danny Reuter, Fraunhofer ENAS

  • 10:10 – 10:40 Uhr
    Variable Shaped Beam Lithography for Micro- and Nanotechnology
    Dr. Matthias Hädrich, Vistec Electron Beam GmbH, Jena

  • 10:40 – 11:10 Uhr
    E-Beam-Applikationen mit traditionellen und neuentwickelten E-Beam-Resists
    Matthias Schirmer, Allresist GmbH, Strausberg

  • 11:10 – 11:40 Uhr
    Elektronenstrahllithographie für die Optik – schnell, flexibel und präzise
    Dr. Ernst-Bernhard Kley, Friedrich-Schiller- Universität Jena, Institute of Applied Physics, Dr. Uwe D. Zeitner, Fraunhofer IOF, Jena

  • 11:40 – 12:10 Uhr
    E-Beam-Lithographie am IMS – Applikationen vom  CMOSDirektschreiben bis zum analogen Nanoimprint Template
    Dr. Mathias Irmscher, Institut für Mikroelektronik (IMS CHIPS), Stuttgart

  • 12:10 – 13:30 Uhr
    Mittagspause

  • 13:30 –14:00 Uhr
    Zonenplatten für die hochauflösende Röntgenmikroskopie
    Dr. Stefan Rehbein, Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie, Berlin

  • 14:00 – 14:30 Uhr
    Module-Integration in eine 0,13 μm BICMOS-Technologie/ ESL-Applikationen
    Dr. Andreas Mai, Leibniz Institut für innovative Mikroelektronik (IHP), Frankfurt/ O.

  • 14:30 – 15:00 Uhr
    Elektronenstrahllithographie – Anwendungen am Fraunhofer
    Heinrich-Hertz-Institut

    Ralf Steingrüber, Heinrich-Hertz-Institut, Berlin

  • 15:00 – 15:30 Uhr
    Kaffeepause

  • 15:30 – 16:00 Uhr
    E-Beam Direktschreiben am Fraunhofer IPMS: Maskenloses Strukturieren für CMOS und MEMS/NEMS Applikationen
    Dr. Christoph Hohle, Fraunhofer IPMS-CNT, Dresden

  • 16:00 – 16:30 Uhr
    Anwendung der Elektronenstrahllithografie für MEMS/NEMS und
    1D-Elektronik

    Dr. Danny Reuter, Fraunhofer ENAS
     

Anmeldung zum Seminar

Bitte senden Sie Ihre Anmeldung
bis zum 23. Oktober 2015
per E-Mail an
events@enas.fraunhofer.de

Hotel

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Frau Anke Geike
Telefon: +49 371 45001-202
anke.geike@enas.fraunhofer.de