Wir laden Sie zu unserem
24. Chemnitzer Seminar
für Nanotechnology, Nanomaterials und Nanoreliability
herzlich ein und begrüßen Sie am
Mittwoch 4. November 2015 in Chemnitz
Ort: Fraunhofer ENAS, Technologie-Campus 3, 09126 Chemnitz
Thema: Elektronenstrahl-Lithografie
Das Fraunhofer ENAS verfügt über spezifisches technologisches Know-how auf dem Gebiet der Smart Systems Integration sowie Mikro- und Nanoelektronik.
Im Rahmen eines langfristig angelegten Investitionsvorhabens, das von der Europäischer Union, dem Bund, dem Land Sachsen und der Fraunhofer-Gesellschaft gefördert wurde, gelang es, eine nachhaltige Verbesserung des technischen und technologischen Potentials unseres Institutes durch die Anschaffung und Inbetriebnahme von Ausrüstungen für die Herstellung von Nanometerstrukturen mit einer Auflösung von bis zu 20 nm zu
erreichen. Kernkomponente der Gesamtinvestition ist die 50 kV Elektronenstrahl-Belichtungsanlage SB254 der Vistec Electron Beam GmbH (Jena), die eine hohe Flexibilität in der Bearbeitung von Forschungsthemen mit Nanostrukturen künftiger Generationen gestattet.
Unser Ziel ist es, anlässlich der Einweihung des Nanolithografie-Labs am Fraunhofer ENAS mit Fachkollegen und Interessenten sowie potentiellen Nutzern und Anwendern der Elektronenstrahllithografie ins Gespräch zu kommen und die neuen Möglichkeiten an unserem Institut vorzustellen.
Wir freuen uns, dass wir für diese Veranstaltung eine Reihe von exzellenten Referenten gewinnen konnten, die mit einem breiten Spektrum an anwendungsorientierten Vortragsthemen zu einem informativen Workshop beitragen werden.
Programm:
- 10:00 – 10:10 Uhr
Begrüßung
Prof. Dr. Thomas Geßner, Dr. Danny Reuter, Fraunhofer ENAS
- 10:10 – 10:40 Uhr
Variable Shaped Beam Lithography for Micro- and Nanotechnology
Dr. Matthias Hädrich, Vistec Electron Beam GmbH, Jena
- 10:40 – 11:10 Uhr
E-Beam-Applikationen mit traditionellen und neuentwickelten E-Beam-Resists
Matthias Schirmer, Allresist GmbH, Strausberg
- 11:10 – 11:40 Uhr
Elektronenstrahllithographie für die Optik – schnell, flexibel und präzise
Dr. Ernst-Bernhard Kley, Friedrich-Schiller- Universität Jena, Institute of Applied Physics, Dr. Uwe D. Zeitner, Fraunhofer IOF, Jena
- 11:40 – 12:10 Uhr
E-Beam-Lithographie am IMS – Applikationen vom CMOSDirektschreiben bis zum analogen Nanoimprint Template
Dr. Mathias Irmscher, Institut für Mikroelektronik (IMS CHIPS), Stuttgart
- 12:10 – 13:30 Uhr
Mittagspause
- 13:30 –14:00 Uhr
Zonenplatten für die hochauflösende Röntgenmikroskopie
Dr. Stefan Rehbein, Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie, Berlin
- 14:00 – 14:30 Uhr
Module-Integration in eine 0,13 μm BICMOS-Technologie/ ESL-Applikationen
Dr. Andreas Mai, Leibniz Institut für innovative Mikroelektronik (IHP), Frankfurt/ O.
- 14:30 – 15:00 Uhr
Elektronenstrahllithographie – Anwendungen am Fraunhofer
Heinrich-Hertz-Institut
Ralf Steingrüber, Heinrich-Hertz-Institut, Berlin
- 15:00 – 15:30 Uhr
Kaffeepause
- 15:30 – 16:00 Uhr
E-Beam Direktschreiben am Fraunhofer IPMS: Maskenloses Strukturieren für CMOS und MEMS/NEMS Applikationen
Dr. Christoph Hohle, Fraunhofer IPMS-CNT, Dresden
- 16:00 – 16:30 Uhr
Anwendung der Elektronenstrahllithografie für MEMS/NEMS und
1D-Elektronik
Dr. Danny Reuter, Fraunhofer ENAS