Sound- und Videoinstallation SMART>SOS

Das Kunstwerk wurde von Tim Otto Roth mit Unterstützung des Vertigo Projects im Rahmen des STARTS Programms der Europäischen Union entwickelt. Die Technologie basiert auf Entwicklungen von Bio4Comp. Die Strukturen wurden mittels Nanolithografie hergestellt. Mehr zum Projekt erfahren Sie unter www.imachination.net/smart

31. Chemnitzer Seminar

Wir laden Sie recht herzlich zu unserem

CHEMNITZER SEMINAR

»Elektronenstrahl-Lithografie: Materialien - Prozesse - Anwendungen«

am Mittwoch, dem 13. März 2019
von 9:30 Uhr bis 16:35 Uhr
am Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme ENAS ein.

 

Seit 2015 verfügt das Fraunhofer ENAS über eine Elektronenstrahl-Belichtungsanlage SB254 der Vistec Electron Beam GmbH (Jena). Bereits damals luden wir anlässlich der Einweihung des Nanolithografie-Labs zu einem Chemnitzer Seminar rund um das Thema Elektronenstrahl-Lithografie ein. Das möchten wir nun wiederholen, um eine regelmäßiges Format zu bieten, bei dem Fachkollegen und Interessenten sowie potentielle Nutzer und Anwender der Elektronenstrahllithografie miteinander ins Gespräch kommen und sich in lockerer Atmosphäre zu aktuellen Themen rund um die elektronenstrahlbasierte Nanostrukturierung auszutauschen. Dabei soll neben den wissenschaftlichen Fragestellungen auch praktische Aspekte und Hintergründe beleuchtet werden, die bei internationalen Konferenzen oft nicht zur Sprache kommen.
Wir freuen uns sehr, dass wir wieder exzellente Referenten für die Veranstaltung gewinnen konnten, die mit einem breiten Spektrum an Vortragsthemen – von Elektronenstrahllacken und neuen Materialentwicklungen über die Datenaufbereitung bis hin zu einem breiten Mix von Anwendungen – zu einem informativen und kurzweiligen Workshop beitragen werden.

Wir würden uns freuen Sie am 13. März in Chemnitz am Fraunhofer ENAS begrüßen zu dürfen.

Mit freundlichen Grüßen,
Danny Reuter

Programm

 9:30 Uhr

Registrierung

10:00 -10:10 Uhr

Grußwort
Prof. Dr. Stefan E. Schulz, Fraunhofer ENAS

Einführung und Moderation
Dr. Jens-Wolfram Erben, Fraunhofer ENAS

10:10 - 11:10 Uhr

Mikro- und Nanostrukturen zur Vermessung der Welt

Dr. Ernst-Bernhard Kley, Friedrich-Schiller-Universität Jena und
Prof. Dr. Uwe Detlef Zeitner, Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF

11:10 - 11:45 Uhr

E-Beamresists aus der griechischen Mythologie

Matthias Schirmer, Allresist GmbH

11:45 - 12:20 Uhr

Novel Innovative Polymers and Photoresists for Advanced High Resolution 3D and Nano Fabrication

Anja Voigt, micro resist technology GmbH

12:20 - 13:15 Uhr

Mittagsimbiss und Get-together

13:15 - 13:50 Uhr

From Layout to Exposure – Data Prep for Vistec‘s Variable Shaped Beam Systems.

Dr. Eike Linn, Vistec Electron Beam GmbH

13:50 - 14:25 Uhr

Optik, MEMS, Photonik, Imprint: E-Beam machts möglich

Dr. Julian Hartbaum, Institut für Mikroelektronik Stuttgart – IMS CHIPS

14:25 - 15:00 Uhr

E-Beam-Based Grating Technologies for High-Brilliance GaAs Diode Lasers

Dr. Olaf Brox, Ferdinand-Braun-Institut, Leibniz-Institut für Höchstfrequenztechnik Berlin

15:00 - 15:20 Uhr

Kaffeepause

15:20 - 15:55 Uhr

E-Beam Nanopatterning at Fraunhofer IPMS – Challenges and Solutions

Dr. Varvara Brackmann, Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS

15:55 - 16:30 Uhr

Nanokanäle, Metamaterialien und Kohlenstoffnanoröhren – Herausforderungen der Nanolithografie für MEMS-Technologien

Dr. Danny Reuter, Fraunhofer ENAS und Zentrum für Mikrotechnologien der TU Chemnitz

16:30 - 16:35 Uhr

Abschluss

Dr. Danny Reuter, Fraunhofer ENAS und Zentrum für Mikrotechnologien der TU Chemnitz

 

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