Sensorsysteme für Prozess- und Zustandsmonitoring

Optisches Monitoringsystem zur Qualitätskontrolle von Galvaniklösungen

Optisches Sensorsystem zur Qualitätsüberwachung von Galvanikprozessen.
In Kooperation mit SHINKO

Um Galvaniklösungen während des Abscheideprozesses hinsichtlich ihrer Zusammensetzung zu überwachen, werden üblicherweise kostenintensive offline-Methoden, wie High-Performance Liquid Chromatographie, eingesetzt. In einem Kooperationsprojekt hat das Fraunhofer ENAS gemeinsam mit dem japanischen Unternehmen SHINKO ELECTRIC INDUSTRIES CO., LTD.  ein optisches Sensorsystem entwickelt, mit dessen Hilfe wesentliche Bestandteile in Galvaniklösungen mit geringem Aufwand online quantifiziert werden können. Das System basiert auf der Erfassung spektraler Eigenschaften der zu messenden Flüssigkeiten mittels Festkörpersensorik. In Kombination mit multivariaten Algorithmen wird die Konzentration der zu erfassenden Bestandteile bestimmt. Bei einer Abweichung von den vorgegebenen Parametern können diese somit bei Bedarf direkt nachreguliert werden. Kompakte Abmessungen, Drahtloskommunikation und optionaler Batteriebetrieb ermöglichen eine effiziente Integration in bestehende Anlagen und die Anpassung für weitere Anwendungen. Dazu zählen unter anderem Prozess- und Qualitätskontrollen in der Lebensmitteltechnik, Umweltanalytik oder in der Halbleiterindustrie.