Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme
Am Fraunhofer ENAS werden neben den für die Mikroelektronik typischen Strukturierungsprozessen auch Prozesse durchgeführt, entwickelt und erforscht, welche aus Kontaminationsgründen in industriell betrieben Reinräumen nicht einschränkungsfrei durchgeführt werden können.
So wurde am Institut eine Kupferstrukturierung unter Anwendung von Wasserstoff-Methan-basierender Plasmen entwickelt. Die erfolgreiche Strukturierung wurde dabei auf einem Reaktor, welcher auf dem ICP-Prinzip arbeitet, durchgeführt.
Auch die Strukturierung von Parylenen zum Beispiel für die Herstellung und Entwicklung von Biosensoren oder Technologien basierend auf DNA-Origami ist im Prozessportfolio am Institut mit angesiedelt.
Des Weiteren werden CNTs für die Herstellung von z.B. Drucksensoren in unseren Reinräumen Strukturiert, wobei eine speziell entwickelte Prozessabfolge die gezielte Ätzung der CNTs ermöglicht.
Technologieabläufe von aluminiumnitridbasierenden piezoelektrischen MEMS verlangen unteranderem die Trockenstrukturierung von Platin. Das Material wird als Keimschicht zur Erzeugung der gewünschten Kristallstruktur von Aluminiumnitridschichten genutzt, sodass das Plasmaätzen von Platin ebenfalls zu unseren Prozessen gehört.
Neuartige Technologien verlangen die Entwicklung neuer Ätz- und Strukturierungsprozesse, weshalb das Fraunhofer ENAS stets die Machbarkeit der plasmagestützten Strukturierung verschiedenster Materialien erforscht und immer wieder neue Prozesse entwickelt.